Система установлена в экранированном помещении «чистой комнаты» класса 4 ISO, на специальном виброгасящем фундаменте.
Система позволяет экспонировать элементы наноструктур
- размером от 8 нм до 500 нм,
- точность совмещения полей 20 нм.
Диаметр экспонируемых пластин до 150 мм.
Форма экспонированных элементов произвольная, которая обеспечивается векторной графикой.
Среднее время экспонирования 1 мм2 составляет около 1 часа.
Система позволяет также исследовать топологию планарных структур в режиме электронного микроскопа с увеличением до 300 тысяч раз, в частности, проводить межоперационный контроль.
