Участок электроформования наномембран с опытно-производственной линией формования нановолокон с двумя модулями электроформования (Nanospider NS-100) c улучшенными электродными системами для получения наномембран на материале-подложке шириной до 1 метра с максимальной скоростью формования до 20 м/мин.
В состав линии входят разматывающе-наматывающие устройства в начале и конце линии, устройство нанесения адгезионного слоя, устройство сушки, климатическая установка, обеспечивающая требуемые климатические условия в модулях электроформования. Отдельная установка ламинирования для термоклеевого скрепления многослойных текстильных материалов.
Установка очистки загрязнённого воздуха кислотными и органическими аэрозолями (Скруббер), поступающими из модулей электроформования и камеры сушки, обеспечивающая полную нейтрализацию кислотных загрязнений.
Оборудование:
 |
Установка электроформования Nanospider NS 4S1000U
• Рабочая ширина нановолоконного слоя – 1000 мм • Волокнообразующих модулей – 1 шт. • Количество электродов – 4 шт. • Скорость подкладочного материала 0,12 – 20 м/мин Диаметр получаемых нановолокон – 80–700 нм |
