Установка электроформования Nanospider NS 4S1000U

•      Рабочая ширина нановолоконного слоя – 1000 мм

•      Волокнообразующих модулей – 1 шт.

•      Количество электродов – 4 шт.

•      Скорость подкладочного материала 0,12 – 20 м/мин

•      Диаметр получаемых нановолокон – 80–700 нм